平面光柵被設計成滿足尺寸，波長范圍，入射角和衍射角的規(guī)格，但不適用于光學系統(tǒng)的特定焦距。因此，只要前面提到的四個參數(shù)相同，就可以將相同的光柵用于不同的光學裝置。其光柵線輪廓是對稱的正弦曲線，光柵線深度針對使用的光譜區(qū)域進行了優(yōu)化。為了獲得率，這些光柵優(yōu)先選用于僅存在兩個衍射級（-1和0）的配置中，即高刻線頻率。在這種情況下，其效率與刻劃閃耀光柵的相當或更好。橫跨光柵表面的光柵深度變化非常小，對于非常高的刻線頻率也是如此。這意味著您可以充分利用所有光柵表面，以獲得儀器的通光量。

　　光柵由標尺光柵和光學讀數(shù)頭兩部分組成。一般固定在機床的活動部件上，如工作臺。光柵讀數(shù)頭裝在機床固定部件上。指示光柵裝在光柵讀數(shù)頭中。標尺光柵和指示光柵的平行度及二者之間的間隙（0.05-0.1mm）要嚴格。當光柵讀數(shù)頭相對于標尺光柵移動時，指示光柵便在標尺光柵上相對移動。

　　平面光柵的通光量基于光柵的光譜儀器的通光量取決于許多因素，例如光源的輻射亮度，光學系統(tǒng)的F數(shù)，入口狹縫的寬度和高度，儀器的光譜帶寬等。在單色器中，使用高頻全息光柵通常比低頻率的經(jīng)典刻劃光柵更有效，盡管經(jīng)典刻劃光柵的效率可能更高。具有高頻率的光柵提供更高的波長色散。因此對于給定的波長分辨率，可以在單色器中使用更寬的狹縫，這能提高通光量。

　　當光柵移動一個柵距，條紋便移動一個條紋寬度，理論上光柵亮度變化是一個三角波形，但由于漏光和不能達到很大的亮度，被削頂削底后而近似一個正弦波。硅光電池將近似正弦波的光強信號變?yōu)橥l率的電壓信號，經(jīng)光柵位移—數(shù)字變換電路放大、整形、微分輸出脈沖。每產生一個脈沖，就代表移動了一個柵距那么大的位移，通過對脈沖計數(shù)便可得到工作臺的移動距離。